図1　SAPIEN3（画像提供：Edwards Lifesciences社）

　前回ご紹介した経カテーテル大動脈弁留置術（transcatheter aortic-valve implantation；TAVI）のニューデバイスであるSAPIEN3（商品名：エドワーズライフサイエンス社）（図1）は、大動脈弁逆流を予防するデバイス周囲スカートや小径化したデリバリーシースなどによって、これまでのTAVIの問題点を解決し、瞬く間にTAVIの標準デバイスとなりました。SAPIEN3は大きな期待と共に今夏、日本でも発売されました。

　現在「最強」のTAVIデバイスと呼ぶにふさわしいパフォーマンスのSAPIEN3に関して、唯一懸念されるのがペースメーカー留置率の高さです。2013年の導入以降、日本でも用いられてきた旧世代のデバイスであるSAPIEN XT（商品名）と比較して、SAPIEN3では術後のペースメーカー留置率が高くなることが報告されています［1］。

　表1のように、SAPIEN XTと比較してSAPIEN3はステント長が延長されており、デバイス周囲に逆流予防のスカートも付いていることから、デバイス留置による房室伝導系への障害が大きくなり、高いペースメーカー留置率につながると考えられています。ただ、このペースメーカー留置率についても、デバイス留置に際してSAPIEN3を若干高めに留置すれば改善できることも報告されています［1、2］。術者がSAPIEN3の留置手技に習熟すれば、克服できる部分が大きいのかもしれません。